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技術文章/ article
空間環(huán)境模擬試驗設備,用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環(huán)套件下測試器件或樣品。該系統(tǒng)具有計算機控制、安全連鎖,以及多級密碼授權訪問保護的功能。它可以用于超過24小時的圈子全自動熱、冷循環(huán)情況下測試器件/樣品,溫度條件通過程序定義。該系統(tǒng)z通常的應用之一是太空模擬??臻g環(huán)境模擬試驗設備腔體的大致尺寸為:直徑24",長度43"。帶有一個16"x32"的滑動加熱平,可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺也可以加熱到150攝氏度,具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個平臺的溫度均勻度...
熱真空試驗箱是專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質而設計的,工作時可使工作室內保持一定的真空度,并能夠向內部充入惰性氣體,特別是一些成分復雜的物品也能進行快速干燥,采用智能型數字溫度調節(jié)儀進行溫度的設定、顯示與控制。熱真空試驗箱外殼由鋼板沖壓折制、焊接成型,外殼表面采用高強度的靜電噴塑涂裝處理,漆膜光滑牢固。工作室采用碳鋼板或不銹鋼板折制焊接而成,工作室與外殼之間填充保溫棉。工作室的內部放有試品擱板,用來放置各種試驗物品,工作室外壁的四周裝有云母加熱器。門封條采用硅橡膠條密封,...
進口光學鍍膜機主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜(控制電柜、電子槍電柜)組成,其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。進口光學鍍膜機工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當的溫度,材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大,蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射,碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。進口光學鍍膜機維護與保養(yǎng)主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設備的清洗與保養(yǎng)。1.定期更換擴散泵油擴散泵油使用一段時...
我們的優(yōu)勢|離子束刻蝕NANO-MASTER的離子束刻蝕系統(tǒng)有很強的適應性,可以根據不同的應用建立不同的結構,不同的樣品臺和離子源配置可實現不同的應用范圍。系統(tǒng)中的樣品臺可實現正負90°傾斜、旋轉、水冷和背氦冷卻。NM成熟的技術可控制基片溫度在50℃以內。通過傾斜和旋轉,深溝可切成斜角,通過控制側壁輪廓和徑向可提高均勻性,不同的構造不同的應用可選擇不同的選配項,也可增加濺射實現刻蝕之后的涂覆保護。應用十分廣泛。NANO-MASTER的離子束刻蝕在行業(yè)中非常有競爭力,它憑什么可...
NANO-MASTERNLD-4000型等離子增強原子層沉積系統(tǒng)可以提供高品質的薄膜沉積,通過配套ICP離子源系統(tǒng)可以支持PEALD和T-ALD等廣泛應用。眾多的優(yōu)勢配置,使得NLD-4000型系統(tǒng)具有許多優(yōu)勢:√超高的薄膜均勻性√良好的粘附力√超凈的沉積(高真空支持)√出色的工藝控制√高度的可重復性(計算機全自動工藝控制)√易使用(可直接調用編好的工藝程序)√運行可靠(所有核心組件均帶有保護)√低維護(完整的安全互鎖)√高、低溫基片樣品臺√小的占地面積26”x44”√全自動...
隨著光學鍍膜設備的技能開展不斷改造,而硬質薄膜的設計向著多元化、多層膜的方向開展。變成現在公司選擇的鍍膜技能。今天咱們經過專家剖析后,給予具體作答。鍍膜機的正常操作辦法應當參閱操作手冊的指示操作。不過大致的操作程序,咱們簡略的說一下吧:1.查看光學鍍膜設備各操作操控開關是不是在"關"位置。2.翻開總電源開關,光學鍍膜設備送電。3.低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,發(fā)動升鐘罩閥,鐘罩升起。4.裝置固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在滾動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱...
隨著原子層沉積技術與其他先進技術不斷融合以及人們對原子層沉積設備的不斷改進,諸如“等離子體增強原子層沉積技術”、“空間式原子層沉積技術”、“流化床原子層沉積技術”等新型原子層沉積技術逐漸出現并在一定程度上有效解決了傳統(tǒng)熱原子層沉積技術所面臨的諸多難題。在過去二十多年,等離子體增強原子層沉積技術發(fā)展迅速。通過巧妙設計等離子體引入方式,人們已經設計出各種等離子體增強原子層沉積設備。從文獻報道來看,針對太陽能光伏領域的應用,一套成熟的空間式原子層沉積設備需保證每小時超過3000片1...
我們大部分人都知道等離子有清洗活化的功能,今天我們來探討下等離子去膠機。等離子去膠機反應機理:在干法等離子去膠技術中,氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機反響室中受高頻及微波能量效果,電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子O*、氧分子和電子等混合的等離子體.等離子去膠操作方法:將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向,推入真空室兩電極間,抽真空到1.3Pa,通入恰當氧氣,堅持真空室壓力在1.3-13Pa,加高頻功率,在電極間發(fā)生淡紫色輝光放電,經過調理功率、流量等技術參數,可得不一樣去膠速...